La litografia Nel mondo dell’informatica la litografia è la tecnica utilizzata per la realizzazione di circuiti integrati con l’aiuto della luce. In questo processo la superficie di un materiale semiconduttore, una lastra (wafer) di silicio, è coperta da un rivestimento protettivo fotosensibile sul quale viene proiettata l’immagine di un circuito. Lo sviluppo di questo rivestimento protettivo indica le zone esposte (e non) del wafer che acquisiscono in seguito le proprietà elettriche volute mediante processi quali l’incisione, l’impianto ionico e la depositazione. Ripetendo il processo con nuovi schemi e maschere si ottengono le strutture più complesse mai inventate dall’uomo: i circuiti altamente integrati o chip. I chip moderni hanno strutture
ancora più piccole della lunghezza d’onda del
fascio di luce utilizzato nella litografica: impiegano
laser Attualmente si stanno ponendo le basi della litografia EUV (Extreme Ultra Violet), che utilizza lunghezze d’onda di 13 nanometri e che potrà realizzare nel silicio strutture di appena 35 nanometri di larghezza. I requisiti che devono soddisfare i materiali utilizzati per la fabbricazione delle maschere sono naturalmente molto rigorosi: una placca di 10 cm di lunghezza riscaldata ad un grado Celsius deve dilatarsi solo di qualche decimo di nanometro, cioè di qualche diametro atomico. Una regolarità di superficie di pochi diametri atomici come quella richiesta si situa anch’essa al limite di quanto teoricamente realizzabile. |
a fluoruro di cripton di una
lunghezza d’onda pari a 193 nanometri per creare
strutture larghe 90 nanometri. Ciò è possibile grazie a
procedimenti ttici come la “Optical Proximity
Correction”, cioè la modifica di un dispositivo (modifica
di un dispositivo volta a compensare le distorsioni
introdotte dal processo litografico) e la “Phase
Shifting” (utilizzo dei fenomeni di interferenza
distruttiva per il miglioramento del contrasto
dell’immagine e della risoluzione litografica).